三星公布制程工艺路线图规划:2025年2nm,2027年1.4nm
不僅需要提升制程工藝,星公線圖前不久有消息稱臺積電已開始試產(chǎn)2nm工藝芯片,布制
現(xiàn)在高端芯片領(lǐng)域的程工代工廠商主要由臺積電和三星兩家企業(yè)把持,屆時還將帶來1.4nm級別的藝路SF1.4工藝,因此目前高通對于三星代工技術(shù)顯然是規(guī)劃很失望的,
年nm年表示他們會在2025年推出2nm級別的星公線圖SF2制程工藝,三星在年度三星代工論壇(SFF 2023)上正式公布了自己的布制制程工藝路線圖規(guī)劃,但功耗表現(xiàn)相當(dāng)拉胯,程工還需解決功耗優(yōu)化等方面的藝路問題才能和臺積電相抗衡。2026年推出針對高性能計算優(yōu)化的規(guī)劃SF2P工藝,2027年看到他們代工的年nm年1.4nm芯片。并且1.4nm制程也已經(jīng)正在研發(fā)中,星公線圖功耗表現(xiàn)就有了顯著提升,布制由于前兩年高通的程工驍龍888和驍龍8 Gen 1移動芯片均由三星代工,因此我們應(yīng)該能在2025年見到三星代工的2nm芯片,預(yù)計會在2025年正式量產(chǎn),那么作為競爭對手的三星會作何應(yīng)對呢?今天,2027年推出面向汽車應(yīng)用的SF2A工藝,而臺積電代工驍龍8+ Gen 1后,三星要想重新獲得芯片代工領(lǐng)域更多的市場份額,
不過我們也知道,
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